天然气研究院与剑阁净化厂开展二氧化硫催化吸附技术工业化应用技术交流
发布时间：2023-03-31 来源：《国企》 作者：张歆 责任编辑：张尧
3月29日，天研院与川西北气矿剑阁净化厂、CPECC西南分公司现场交流二氧化硫催化吸附技术工业化应用，天研院净化所技术专家、剑阁净化厂领导及生产一线技术人员、CPECC各相关专业人员参加会议。
在剑阁净化厂净化生产装置现场，技术人员就中低温二氧化硫催化吸附技术工业装置原料烟气和净化烟气取气口、吸附反应器高径比、管道走向、平面布置、管材选择及防腐处理等技术细节进行深入讨论，并根据现有焚烧炉烟道气条件、管道现状明确了烟气管道的改造方案、设计输入条件、甩头料表及技术规格要求等。
中低温二氧化硫催化吸附技术是天研院紧急响应集团公司对天然气净化生产装置全时段二氧化硫达标排放的要求，专项攻关形成的新技术，是对已形成的可再生二氧化硫催化吸附成套技术的进一步升级和完善。此次现场技术交流，明确了各自单位负责的相关内容及进度要求、时间节点，进一步保障中低温二氧化硫催化吸附技术在剑阁净化厂落地生根，支撑公司净化装置开停工期间二氧化硫达标排放。
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